高出力ブルーレーザーポインタータバコ、マッチに瞬間点火

レーザーポインター最強照射

近年では、新しい超小型の超高速レーザーポインター売り場技術の急速な発展は、新しい実験手段と人類のための極端な物理的な条件を提供します。一方、なぜなら、その短い超高速レーザパルス時間、エネルギー及び高いピークの材料処理小さな熱影響部で、良好な結果は、「コールド」処理懸念を達成することができます。などの科学研究分野、マイクロエレクトロニクス、医療機器、多くの分野に存在する、超高速レーザー精密加工アプリケーションでは、いくつかの進歩を遂げており、今後の発展のために広いスペースがあります。国内企業をリードし、成果のシリーズを作った、超高速レーザの研究開発のレイアウトの焦点となっています。

開発と製造のマイクロ電子デバイスに広く薄膜のパターニングに使用される光起電ナノメートル、ディスプレイ、センサ、又は大きな有機電子デバイス、超高速レーザ（ピコ秒やフェムト秒）を含みます。
超高速レーザーポインター格安の主な利点は、それによって複雑なパターン化された超薄膜の多層構造を実現し、その限られた熱効果および高速エネルギー散逸です。

ナノマテリアルこれからの時代にも、高速で効率的かつ小型化されたデバイスをもたらすでしょう。しかし、単一原子層に正確なこれらの新しいナノ材料を処理する大きな技術的困難を持ちます。超高速レーザの原子レベルのアプリケーションの導入後、すなわち、二次元炭素グラフェン格子をパターニングします。
グラフェンとレーザー照射
過去十年間では、グラフェンは、大きな反響を引き起こしました。なぜなら、そのユニークな特性のため、それは広く光子、光電センサ、化学反応とエネルギー貯蔵を含む様々な用途で使用されています。異なる処理プロセスグラフェン技術のために開発された、従来の治療法は、主にシリコンマイクロエレクトロニクスに基づいています。レーザーポインターカラス撃退 加工は、単にグラフェン素子を開発するために使用され始めたが、その大きな可能性を示しています。レーザビームは、グラフェンのレーザ支援成長（LIG、炭化ケイ素及びポリアミドを含むグラフェンの異なるタイプを処理するために使用することができます

超高速レーザーは、多置換の単工程直接書込みレーザリソグラフィ工程であることができる;従って、湿式法により表面に形成された不純物を回避します。
グラフェンパターンは、アブレーションされました

わずか数原子の厚さや単一層に、幅の広い電磁スペクトル窓における光吸収グラフェンは比較的高いです。グラフェン懸濁液を、2.3％の精度見えるような値の単一層の観点。また、グラフェンは、光は、基板との界面の性質に応じて10倍まで吸収、基板上に設けられていてもよいです。非常に高い光子密度を有する超高速レーザを使用する場合、更に改良された光を吸収することができます。だから、より正確で効率的なアブレーショングラフェンを提供することができるようにします
グラフェン光化学治療
光を照射することにより、公知の材料（通常、紫外線）の表面の光化学的処理は、内部の化学反応又は周囲環境（ガス、蒸気および液体、等）による位相変化は、材料の特性を変更します。レーザ加工は、最も広く使用される方法は、多光子重合添加剤の製造工程のレーザーポインター最強照射による光化学的治療です。これは、化学処理と3Dポリマー複合体のためのユニークな方法を提供します。この方法は、それが化学的に強リー紫外線酸化によって処理することができ、また、炭素ベースのグラフェンに適用されます。
グラフェン進行中の研究の他の新機能としては、不純物を含まないレーザ加工、迅速な、再現性のある技術を使用して、新しいマイクロエレクトロニクスの統合グラフェンのためのスケーラブルなプラットフォームを提供することができます